Guangzhou Hornikuntza ezin hobea ESD PEEK Film iraunkorra gainazaleko erresistentzia 10⁶–10⁹ Ω/sq, tenperatura altuko erresistentzia -200 ℃ eta 260 ℃, desgaste baxua, karbono nanohodiak aldatutako ESD PEEK xafla oblea hutsean, zunda-estazioa, aparatu elektronikoa. Lodiera eta tamaina pertsonalizatuak eskuragarri.
ESD PEEK filma karbono nanohodiekin edo karbono beltz ultrafinekin bete eta aldatzen da eta estrusio-galdaketa edo ispilu kalandratze prozesuen bidez fabrikatzen da. Errendimendu estatiko-dissipatzaile bikaina, tenperatura altuko erresistentzia, sendotasun mekanikoa, disolbatzaileen garbiketa erresistentzia, suaren atzerapena eta erradiazioarekiko erresistentzia integratzen ditu. Erdieroaleen fabrikazioan eta energia berrien industrian asko aplikatzen da.
PEEK antiestatikoen filma guztiz desberdina da gainazal estatiko estatiko-dissipatzaile plastikozko ohiko filmetatik. Gainazalez estalitako filmak kostu baxukoak eta gardenak dira, baina haien estaldura antiestatikoa 120 °C-tik gora deslaminatzen da eta guztiz huts egiten du disolbatzaileak garbitu ondoren. Horrelako filmak epe laburreko tenperatura baxuko aplikazioetarako soilik dira egokiak. Aitzitik, ESD PEEK filmeko betegarri eroaleak PEEK matrizean uniformeki sakabanatuta daude, estatiko-dissipatzaileen errendimendu iraunkorra emanez. Leuntzean, disolbatzaileen garbiketan edo epe luzerako tenperatura altuko zerbitzuetan ez da estaldura-deslaminaziorik edo akats antiestatikorik gertatzen.
Guangzhou Ideal PEEK zinemaren ikerketan eta ekoizpenean espezializatu da 2014az geroztik, eta 12 urte baino gehiagoko industria profesionaleko esperientzia pilatu du. Gure ESD PEEK film serieak goi-mailako karbono-nanohodiak (CNT) erdieroale-mailako motak, karbono beltz eroale ultrafinez betetako industria-kalifikazio orokorrak eta karbono-zuntzez indartutako ESD kalifikazioak biltzen ditu.
1. CNT goi-mailako erdieroaleen kalifikazioa
Karbonozko nanohodiak dimentsio bakarreko nanokarbonozko material hodidunak dira, aspektu-erlazio oso altua dutenak. Hiru dimentsioko sare eroale jarraitua osa daiteke betegarri karga oso baxuarekin. Karbonozko nanohodi guztiak erretxina-matrizeak guztiz kapsulatzen ditu karbono-partikula askerik sortu gabe. Kalifikazio hau aproposa da garbitasun handiko erdieroaleen zehaztasun prozesuetarako, besteak beste, obleak maneiatzeko, zundaketa-estazioen funtzionamendurako, huts-ganberako sistemetarako eta aplikazio optikoetarako.
2. Karbono-beltza eroale ultrafina industria-maila
Partikulen arteko kontaktuaren bidez sare eroaleak osatzen dituzten karbono-partikula esferikoz osatua, kalifikazio honek 10⁶-10⁹ Ω/sq-ko gainazaleko erresistentzia-tarte egonkorra du, erresistentzia banaketa uniformearekin eta anisotropia ahula duena. ESD errendimendu kualifikatua lortzeko betegarri karga nahiko altua behar da. Gehiegizko karbono beltza gehitzeak filmaren gogortasuna murrizten du eta marruskadurak eragindako karbono isurtzea eragiten du gainazaleko garbitasun eskasarekin. Ez da aplikatzen goi-mailako erdieroaleen obleen prozesuetarako eta batez ere ekipamendu elektroniko arruntetarako, litiozko bateriaren osagaietarako, tenperatura altuko tresnetarako eta leherketa-frogarako ekipamendu orokorretarako erabiltzen da ekoizpen masibo errentagarrirako.
3. Txikitutako karbono-zuntzez indartutako kalifikazioa
PAN-oinarritutako karbono-zuntzak txikitutako karbono-zuntzak xahutze estatikoa eta estruktura sendotzea eskaintzen du, indar mekanikoa eta urradura-erresistentzia hobetuak eskaintzen ditu. Bere gainazaleko erresistibitatea 10⁴-10⁷ Ω/sq bitartekoa da. Muga nagusia estrusio-galdaketan eratutako anisotropia eroalea da, MD/TD erresistentzia desbideratze txikia eragiten duena. Maila polifazetiko hau oso erabilia da erdieroaleen hornigailuetarako, SMT tenperatura altuko juntagailuetarako eta litiozko bateria tresnetarako.
Oharra: karbonoz betetako PEEK film guztiek ez dute ESD errendimendu kualifikaturik. Betegarri handiko CF30 karbonoan aberatsa den PEEK-ek gehiegizko eroankortasuna erakusten du eta ezin da erabili estatiko-dissipatzaile ESD film estandar gisa.
Hamarkada bat baino gehiago pilaketa teknikoarekin, goi-mailako produkzio-ekipamenduen inbertsioarekin eta kalitate-kontrol sistema estandarizatuekin, Guangzhou Ideal-ek ESD PEEK filmaren fabrikazioan kalitate kritikoko puntuak konpondu ditu.
1. Torloju bikoitzeko estrusio-ekipo pertsonalizatuak torloju-konfigurazio optimizatuekin betegarri uniformearen sakabanaketa eta zuntz-egitura osorik orekatzen ditu, tenperatura altuko erresistibitate-noraeza ezabatuz eta gainazaleko erresistentzia egonkorra bermatuz ziklo termiko errepikatuen ondoren.
2. Trakzio-tentsioa eta marrazketa-erlazioa jaitsiz eta gradientea errekosteko tratamendua hartuz, anisotropia eroalea eta norabide-erresistentzia-desbideratzea modu eraginkorrean arintzen ditugu.
3. Zehaztasun-gradientearen errezisteak tenperatura-igoera eta hozte-tasak zorrotz kontrolatutako barne-esfortzuaren hondar-esfortzua askatzen du, deformazioa eta kizkurdura nabarmen murrizten ditu moztu eta moztu ondoren.
4. Aldatutako granulazioa hautsik gabeko ingurune batean egiten da zuntz-matrizearen arteko lotura babesteko. Horrek konpontzen ditu interfazien deslotura eta marruskadurak eragindako karbono isurtzea, mikro-partikulen kutsadura eta obleen marradura saihestuz.
Erdieroale-mailako ESD PEEK pelikulak 10⁶-10⁹ Ω/sq-ko erresistentzia egonkorra eskaintzen du deskarga estatiko uniformerako, obleak eta IC txipak tentsio handiko matxura ekidinez. Kalifikazio erdi isolatzaileak (10¹⁰–10¹² Ω/sq) orekatzen ditu isolamendua eta ezabaketa estatikoa tenperatura altuko desbideratze minimoarekin. Filmak etengabeko funtzionamendua onartzen du 260 °C-tan erresistentzia-fluktuazioa % 5 barruan kontrolatuta, hutseko inguruneetan metaketa estatikoa ezabatuz.
ESD PEEK filmak -200 °C eta 260 °C arteko etengabeko tenperatura-tartea eskaintzen du eta epe laburreko beroarekiko erresistentzia 340 °C artekoa eskaintzen du. Tenperatura baxuetan pitzadura-erresistentea izaten jarraitzen du eta tenperatura altuetan leuntzeari, fluxu termikoari, deformazioari eta deformazioari eusten dio, dimentsio-errendimendu egonkorra mantenduz txandakako ziklo termikoetan.
Filmak trakzio eta urratzeko erresistentzia handia du. Zehaztapen ultra-meheek hausturari eta behin eta berriz okertuz egindako pitzadurari aurre egiten diote. Propietate autolubrikatzaileak, marruskadura koefiziente baxua eta higadura-tasa baxuak dituenez, epe luzerako egitura-egonkortasun bikaina eskaintzen du. Deformazio baxuak junten eta estaldura-filmen egitura-kolapsorik ez du bermatzen tenperatura altuko presio iraunkorrean.
PEEK antiestatikoen filmak azido, alkali, zetona, ester, alkohol eta garbiketa industrialeko disolbatzaile indartsuenak jasaten ditu, PEEK substratua disolbatzeko gai den azido sulfuriko kontzentratua bakarrik. Lixiviazio ioniko oso baxua eta partikula gutxien isurtzearekin, filmak 1. klaseko eta 10. klaseko tailer ultra-garbiko estandarrak betetzen ditu eta obleak eta lente optikoen kutsadura saihesten du.
1. Erdieroaleen obleen fabrikazioa
Erdieroaleen zehaztasun prozesuetarako oinarrizko material gisa, ESD PEEK filmaren xahutze estatiko iraunkorra, tenperatura altuko egonkortasuna, desgasifikazio baxua eta zero hauts-isuriaren propietateak ezin hobea da obleen hutseko mandriletarako, zunda-estazioko ESD isolamendu termikoko giltzurrunetarako eta obleen garraiatzeko isolamendu-filmetarako.
2. Doitasun-elektronika, PCB eta saiakuntzarako tresnak
Tenperatura altuko erresistentzia bikainak ESD film isolatzaileak ekoizteko aukera ematen du tenperatura altuko proba funtzionaletarako, FPC tenperatura altuko babes-filmak, SMT erreminta termikoko juntak eta molde elektronikoen isolamendu-osagaietarako.
3. Litiozko bateria eta energia berria industria
ESD film isolatzaileek elektrodoen xaflen marruskadura-elektrifikazioak eragindako zirkuitu laburrak eta sute-arriskuak saihesten dituzte. Suaren aurkako, tenperatura altuko erresistenteak eta estatikoen aurkako estaldura-filmak bateriaren leherketa-frogako ekipoetan aplikatzen dira, funtzionamenduaren segurtasun orokorra hobetzeko.
Arrazoia: Gradientearen errekostea hostorik ez dago hondar-tentsioa blokeatuta dagoen PEEK Film Antiestatikoaren barruan. Tenperatura handiko prozesatzeak hondar-esfortzua askatzen du eta polimero-kateak erlaxatzen ditu, barne-sare eroalearen irristadura eta berreraikuntza eraginez. Horrek ausazko erresistibitate desbideratzea eragiten du, tokiko eremuak isolatzaile edo gehiegi eroale bihurtzen direlarik.
Arrazoia: zuntz-matrizearen arteko lotura eskasa, karbono-zuntzaren berezko hauskortasuna baino.
A. Pikorketa garaian torloju-ebakidura gehiegizkoak karbono-zuntzak birrintzen ditu eta erretxina kapsulatzeko geruza kaltetzen du.
B. Karbono-zuntz gordinen dimentsio-agente komertzial hondarrak tenperatura altuko esposizioaren ondoren interfazeen deslotura eragiten du.
Irtenbidea: kendu hondar-zuntz-tamaina eta aplikatu PEEK-ren espezifikoak aldatutako dimentsio-agenteak zuntz-matrizearen arteko lotura sendotzeko eta marruskadurak eragindako partikulen txiringa kentzeko.
Arrazoia: karbono-zuntz aglomeratuak granulazioan zehar gainazaleko zuntz hobiak sortzen ditu galdaketa ondoren. Aglomerazio puntuetan gainjarritako zuntzek eroankortasun handiko mikroeskualde lokalizatuak sortzen dituzte, erresistentzia oso baxuarekin, tokiko pizte elektrikoaren arriskuak ekartzen dituztelarik.
Kontrol-metodoa: optimizatu granulazio-parametroak betegarrien sakabanaketa eta zuntzaren luzeraren atxikipena orekatzeko. Ezarri puntu anitzeko zeharkako erresistibitate ikuskapena filmaren zabalera osoan zehar, erroiluen burua eta isatsa soilik probatu beharrean.
1. Kualifikatu gabeko errekostatzeko tenperatura-kurba.
2. Gehiegizko harilkadura-tentsioak hondar biltegiratzeko estresa eragiten du. Fabrikaren ikuskapenean laua bada ere, filma pixkanaka okertzen da barneko tentsioa askatzen den heinean biltegiratze garaian.
Irtenbidea: Hartu neurri meheko filmetarako tentsio baxuko harilkadura-parametro pertsonalizatuak; 0,3-0,5 mm-ko filmetarako parametro estandarrak ez dira aplikagarriak.
1. Nazioartean hartutako purutasun handiko PEEK antiestatikoko lehengaiak hartzen ditugu eta fabrikazio-teknologia helduarekin konbinatzen ditugu. Gure ESD PEEK filmak karbono partikulen aglomerazioak eragindako tokiko akatsak saihesten ditu, erresistentzia baxuko gune lokalizatuak eta puntu hildako isolatzaileak barne. Betegarrien sakabanaketa eskasak erraz abiarazten ditu tokiko matxura elektrostatikoa eta zirkuitu laburrak bezeroen lantokietan, sorta hondatzea eta galera ekonomiko handiak eragiten ditu.
2. Gure ESD PEEK filmek dimentsioko zehaztasun handia eta barne-tentsio oso baxua dute, tenperatura altuko txirrindularitzan uzkurtzeari eta uzkurtzeari aurre egiten diotela. Dispertsio estatiko-dissipatzaile uniformearekin eta zero partikulen difrakzioarekin, materialak tenperatura altuko huts-inguruneetan mikropartikula beltzak askatzea ekiditen du, obleak eta lente optikoen kutsadura eta etekina murrizteko arriskuak eraginkortasunez saihestuz.
3. Filmaren erroilu berean makinaren norabidearen eta zeharkako norabidearen arteko erresistentzia-aldea minimoa da. Erresistentzia-desbideratze orokorra erroilu bakar baten barruan eta sorta ezberdinen artean zorrozki kontrolatzen da magnitude ordena baten barruan.
4. Erresistibitate kalifikazio pertsonalizatuak, Filmen lodierak eta slitting-tamainak eskaintzen ditugu erdieroale, doitasun-elektronika eta bezero aeroespazialei. Bezeroek produktuen marrazkiak, funtzionamendu-tenperatura-parametroak eta gainazaleko erresistentzia-baldintzak aurkez ditzakete. Gure ingeniaritza taldeak materialaren errendimenduaren txosten osoa eta fabrikako zuzeneko aurrekontua entregatuko ditu 24 orduko epean.
A1. Bete gabeko PEEK hutsak isolamendu-errendimendu bikaina eskaintzen du gainazaleko erresistibitatearekin, 10¹⁴ Ω/sqq. Erraz metatzen du karga estatikoa, eta horrek zehaztasun handiko osagaiak kalte ditzakete, hala nola obleak eta IC txipak. ESD-k eraldatutako PEEK filmak eraginkortasunez xahutzen du elektrizitate estatikoa, PEEK erretxina puruaren propietate mekaniko, termiko eta kimiko goi mailako guztiak guztiz mantentzen dituen bitartean.
A2. Ez. Partikulen isurketa karbono-zuntzaren eta erretxina-matrizearen interfazearen lotura ahuletik sortzen da, hau da, gorako formulazioan eta granulazioan sortzen dena. Ondorengo leunketak eta garbiketak gainazaleko karbono-hauts flotatzaileak bakarrik kendu ditzake, baina ezin ditu barne-interfaze-akatsak konpondu. Marruskadurak oraindik ere partikulak isurtzea eragingo du epe luzera erabili ondoren.
A3. Kalitate handiko karbono-zuntzez betetako ESD PEEK-ek barne-sare eroale egonkorra osatzen du, zahartzerik edo errendimenduaren gainbeherarik gabe. Gainazalez estalitako film antiestatikoek ez bezala, bere propietate estatiko-dissipatzaileak iraunkorrak dira. Hala ere, zuntz-matrizearen interfazea hondatzen bada, marruskadurak eragindako hondakinen etengabeko metaketak tokiko ESDaren errendimendua aldatuko du.
A4. Karbono-zuntzez betetako ESD PEEK-ek estrusioan zuntz-fluxuaren orientazioak eragindako berezko anisotropia eroalea erakusten du. Norabide bakarra probatzeak ezin du barne-errendimendu anormala hauteman. Amaitutako produktuen ikuskapenak makinaren norabidea (MD) eta zeharkako norabidea (TD) erresistentzia probak barne hartu behar ditu anisotropia kontrolatzeko eta bezeroentzako loteen kalitatearen inkoherentzia saihesteko.
A5. Galdaketa moldean zehar, karbono-zuntzak materialaren fluxuaren norabidean lerrokatzen dira, anisotropia eroale naturala sortuz. Industriak kualifikatutako tolerantziari esker, erresistibitate-diferentzia gehienezko magnitude-ordena bat izan daiteke fluxuaren eta zeharkako noranzkoen artean. Bi magnitude-ordena gainditzen dituen desbideratze bat kalifikatutzat hartzen da. Hori dela eta, bi norabide-erresistentziak probatu behar dira sarrerako ikuskapenean.
A6. Industria estandarraren arabera, ≤ 0,5 mm-ko lodiera duen PEEK materiala ESD PEEK film gisa definitzen da, orokorrean erroilu etengabean ekoitzi eta hornitzen dena. Lodiera > 0,5 mm-ko materiala ESD PEEK xafla gisa sailkatzen da, plaka solidoaren moldura bidez fabrikatua. Bi kategoriek konformazio eta ekoizpen prozesu desberdinak hartzen dituzte.
